Ce n’est encore qu’un simple brevet. Mais il pourrait représenter une avancée technologique majeure pour la Chine, lui permettant de contourner les sévères restrictions d’exportation imposées par les États-Unis et ses alliés sur les puces les plus avancées et les équipements nécessaires à leur production. La semaine dernière, l’équipementier Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) a rendu public un brevet, déposé l’an passé, portant sur un système de lithographie par rayonnement ultraviolet extrême (EUV en anglais), rapporte le South China Morning Post. Cette technologie est indispensable pour obtenir les meilleures finesses de gravure, sous les 7 nm. Elle n’est actuellement maîtrisée que par le géant néerlandais ASML. Et son exportation vers la Chine n’a jamais été autorisée par les Pays-Bas.
Précaution – À ce stade, le brevet déposé par SMEE, qui n’a pas encore été validé par les autorités chinoises, doit être considéré avec une grande précaution. D’abord, parce qu’un brevet ne signifie pas que l’entreprise sera effectivement capable de produire un système EUV. Et encore moins que celui-ci pourra être utilisé pour une production à grande échelle. Ensuite, parce que SMEE, fondé il y a plus de 20 ans et placée depuis 2023 sur la liste noire de Washington, n’est pas connu comme un acteur très avancé dans le domaine des machines de lithographie. Ces systèmes par ultraviolet profond (DUV) permettent d’atteindre une finesse de gravure de 90 nm. En décembre 2023, l’un de ses investisseurs avait annoncé une machine permettant de graver des composants en 28 nm. Mais ce modèle n’est pas encore commercialisé.
Dépendance – Le brevet déposé par SMEE témoigne des efforts colossaux de l’industrie chinoise, soutenue financièrement par le gouvernement. L’objectif de Pékin n’est pas seulement de concevoir les puces que le pays ne peut plus acheter, en particulier les dernières cartes graphiques dédiées à l’IA générative. Mais aussi de remonter dans la chaîne, en produisant des galettes de silicium, des gaz industriels et produits chimiques, et des machines de lithographie. Pour ces dernières, 99% du parc installé en Chine proviennent d’ASML et ses rivaux japonais Canon et Nikon. Mais l’accès à ces équipements étrangers est désormais remis en cause. Sous la pression de Washington, La Haye et Tokyo ont en effet mis en place des restrictions d’exportation. Et les États-Unis réclament une interdiction de maintenance des machines déjà déployées.
IA générative – Dans un premier temps, la Chine cherche à développer ses propres systèmes DUV. Mais le chemin reste encore long. Mardi, le ministère de l’industrie s’est félicité de deux avancées dans le domaine, vantant des appareils similaires à des modèles commercialisés depuis des années par ASML. Ensuite, le pays va devoir maîtriser la technologie EUV. Certes, le fondeur SMIC a réussi l’an passé à tirer le potentiel maximum des équipements DUV qu’il possède, gravant pour la première fois à grande échelle, un processeur mobile en 7 nm, conçu avec Huawei. Mais il aura besoin d’appareils EUV pour aller plus loin. L’enjeu est capital, afin de ne pas être dépassée dans le domaine de l’IA générative, qui requiert une importante capacité de calcul. Et donc des puces très performantes dont l’exportation en Chine est interdite.
Pour aller plus loin:
– ASML lance une machine à 350 millions pour graver les prochaines puces
– Ciblée par les États-Unis, la Chine lance la riposte
